可控硅控制加热器功率,EMC传导不合格测试曲线

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可控硅控制功率传导不合格测试曲线

可控硅控制功率传导不合格测试曲线

曲线的对应分析
曲线特征根因对应整改
150k–1MHz 全面超di/dt 过大差模电感
0.3–1MHz 尖峰dv/dt 过快RC Snubber
5–20MHz 鼓包共模耦合EMI 滤波 + 接地
峰值/平均都超连续干扰三者必须同时做

根据经验,99% 情况如下:
❌ 可控硅前面 没有专用 EMI 滤波器
❌ 即使有滤波:
  • 电感值太小
  • 没有 RC Snubber
  • Y 电容没法用或太小
❌ 可控硅 dv/dt 抑制不足
❌ 加热器线缆较长(等效天线)

这个可控硅传导不合格,根因 100% 是:
可控硅相位切割产生的强差模 + 共模宽带骚扰,
现有输入端抑制措施严重不足。

不合格原因一:为什么可控硅会在传导上“超这么多”
原因一:相位切割 = 人为制造“电流冲击”
可控硅的工作方式本质是:
  • 每个工频半周
  • 在 α 导通角突然导通
  • 电流从 0 → 峰值 几微秒内完成
极大的 di/dt(电流变化率)

不合格原因二:加热器是“近似纯阻性负载”,反而更糟
很多人以为:
“加热器是电阻,应该很干净”
这是 EMC 里一个非常大的误区。
实际情况是:
  • 没有电感缓冲
  • 电流上升极快
  • 电网阻抗 + 线缆阻抗 → 转化成 共模 + 差模噪声
纯阻性负载 = di/dt 最大

不合格原因三:可控硅 dv/dt 极高,疯狂往电源线“灌共模噪声”
当可控硅在某个相位点触发时:
器件两端电压瞬间塌陷
dv/dt 非常大
通过:
  • 可控硅结电容
  • 散热片
  • PCB 分布电容
  • 外壳

大量共模噪声被注入 L/N → 地
这就解释了:
  • 5~20 MHz 的“鼓包”
  • 以及图中明显的共模主导形态

不合格原因四:控制角变化 → 噪声“随功率变化而变”
如果你在测试时:
  • 扫描了多个功率档位
  • 或功率是闭环调节的

那么:
  • 每个导通角 = 不同频谱结构
  • 测试时刚好“撞上最差点”
EMC 测试 一定会抓到最脏的那一刻,只要认真测试,或者随机遇到

为什么“比开关电源还难过”?(有共鸣吗?)
项目开关电源可控硅
开关频率固定随相位变化
波形可预测极不规则
EMI 频谱集中宽带连续
滤波难度中等很高
EMC 工程师最怕
👉 很多实验室私下都说:
“EN55014 里最难过的,不是 开关电源,而是可控硅。”




整改思路、整改方向,整改具体措施:




🔥 整改核心(几乎必做)
  • 可控硅 RC Snubber(并在可控硅两端)
  • 可控硅前串联差模电感(不是磁珠
👉 这是抑制 di/dt、dv/dt 的根本

专用 55014 用 EMI 滤波器
  • L–N 差模
  • L/N–PE 共模
滤波器必须 靠近电源入口

调整触发方式
  • 零点控制(ZC) vs 相位控制
或改为:
  • 周期调功(Burst Control)

可控硅两端 RC Snubber(第一优先级)
作用
  • 降低 dv/dt
  • 压制 150 kHz~5 MHz 的宽带尖峰
  • 对图中 0.3–1 MHz 超标最有效

推荐参数(220 VAC 通用)
元件推荐值备注
R47 Ω ~ 100 Ω≥1 W,非绕线
C0.047 µF ~ 0.1 µFX2 安规电容
连接并在可控硅 MT1–MT2走线越短越好
👉 经验结论:
  • 0.1 µF + 47 Ω → 抑制更猛
  • 0.047 µF + 100 Ω → 发热更低
常用首选:
👉 0.1µF (X2) + 47Ω

参数差异会“抑制猛 / 发热低”
参数抑制能力发热
0.1 µF + 47 Ω⭐⭐⭐⭐⭐⭐⭐⭐
0.047 µF + 100 Ω⭐⭐⭐⭐


工程经验:
  • 电容越大 → dv/dt 抑制越强
  • 电阻越小 → 能量吸收越狠,但更热

220V 加热器首推:
  • 功率大、EMI 很猛 → 0.1 µF + 47 Ω
  • 功率小、留余量 → 0.047 µF + 100 Ω

可控硅前串联差模电感(不是磁珠)
很多人漏掉,但极其关键的一步。
🔧 作用
  • 限制导通瞬间 di/dt
  • 把“电流断崖”拉成“斜坡”
  • 对 150 kHz~1 MHz 特别有效
推荐参数(220V 加热器)
参数推荐范围
电感值100 µH ~ 470 µH
额定电流≥ 加热器 RMS 电流 ×1.5
类型铁硅铝 / 铁粉芯
位置可控硅前,L/N 串联
注意:
  • 不要用磁珠(会饱和)
  • 不要放 EMI 滤波器后面(效果打折)

电源入口 EMI 滤波器
  • 差模:可控硅电流谐波
  • 共模:dv/dt 经寄生电容耦合的噪声
推荐器件级别:
  • 共模电感:2×(5–10 mH)
  • X2 电容:0.1 µF ~ 0.47 µF
  • Y 电容:2.2 nF ~ 4.7 nF
外壳接地不好 = Y 电容效果直接腰斩

为什么“只加滤波器”通常过不了?
这是一个非常重要的工程认知点:
  • EMI 滤波器 ≠ 噪声消除器
  • 它只能“挡”,不能“治”
如果:
  • 可控硅 dv/dt 没压
  • di/dt 没限制

整改顺序是:
可控硅本体 → 差共模/路径限制 → 再到 EMI 滤波

改控制方式(如果允许)
  • 相位控制 → 整周期控制(Burst / ZC)
  • EMC 改善幅度:10–20 dB(非常明显)

项目任意角度导通0° 过零导通
电压瞬间值≈ 0
dv/dt极大极小
di/dt极大极小
高频谐波很多极少
EMI❌ 高✅ 低
整周期(Burst / Zero-Cross)控制,是通过仅在交流电压过零点(α = 0°)触发导通,并以整周期通断方式调节输出功率,从而避免相位控制中因非零相位导通带来的高 dv/dt 与 di/dt,显著降低 EMI。

功率调节靠“周期数量”,不是靠“角度大小”
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