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电子束图像干扰解析:横纹、斜纹与毛刺的电磁干扰机理与电路对策 ...
✅ 一、干扰现象与底层逻辑框架干扰现象主要表现底层干扰逻辑本质原因分类横向条纹水平方向亮度周期变化、横纹滚动电源干扰、电源波动影响扫描速度低频电源谐波、共模噪声斜向条纹斜纹、交错条纹扫描电路交叉干扰、 ...
分类:    2025-7-7 08:27
电子束控制精度会受到EMC电磁干扰影响吗?
电子束会受到影响,且在高精度电子束控制设备中,这种干扰风险非常关键。 ✅ 1. 电子束控制为何容易受EMC电磁干扰影响? 原因本质:电子束控制高度依赖电磁场稳定性 电子束的偏转、聚焦、加速,全部依赖于电压、电 ...
分类:    2025-7-4 22:45
电子束偏转器:精准控制电子束扫描的核心原理
一、电子束扫描的基本概念电子束扫描技术广泛应用于扫描电子显微镜(SEM)、电子束光刻(EBL)、电子束诱导电流成像(EBIC)、电子束曝光系统等设备中,其核心任务是控制电子束在样品表面有规律、可控地移动,从而实 ...
分类:    2025-7-4 22:39
EBIC(电子束诱导电流成像)
电子束诱导电流成像(EBIC, Electron Beam Induced Current)是一种结合扫描电子显微镜(SEM)技术的半导体材料与器件电学性能分析方法。其核心原理是利用电子束照射半导体PN结区域,激发电子-空穴对,在内建电场作 ...
分类:    2025-7-4 22:01
电子束光刻(EBL)技术
什么是电子束光刻? 电子束光刻(e-beam lithography;EBL)是无掩膜光刻的一种,它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶(抗蚀剂)表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。 电子束光刻系统有着超高 ...
分类:    2025-7-4 21:43
EBL与NBL电子束曝光系统的区别与应用解析
EBL(Electron Beam Lithography,电子束曝光系统)与 NBL(Nano Beam Lithography,纳米束曝光系统)其实都是电子束光刻技术的分支,核心原理相同,但侧重点和应用略有差异。下面是两者的区别: ✅ 1. 名称与侧重项 ...
分类:    2025-7-4 21:32
电子束光刻机与EUV光刻机的核心区别解析
1. 原理不同项目电子束光刻 (EBL)EUV光刻原理利用电子束(加速电子)直接扫描感光材料利用13.5 nm极紫外光进行光刻光源/束源高能电子束极紫外光(波长13.5 nm)成像方式逐点扫描(Serial Writing)光罩投影(Project ...
分类:    2025-7-4 21:28
电子束曝光系统示意图
电子束曝光系统的重要指标 最小束直径:直接影响曝光图形的最小尺寸。可通过调整以下措施获得更小的束斑直径,①设置尽量高的加速电压 ②采用较小尺寸的光阑孔径 ③采用小的工作距离 ④设置小的扫描场 ⑤设置小的曝 ...
分类:    2025-7-4 21:27
GB 9706.202-2021高频漏电流,测试出来的单位是w还是A?
在 GB 9706.202-2021 中关于高频漏电流的规定:测试的单位是: ✅ 瓦特(W),即功率。📌 条文核心原文意思:高频漏电流通过一个200 Ω无感电阻,在其上形成的功率,不得超过设备最大双极额定输出功率的 1%。🔧 为什 ...
分类:    2025-6-13 16:06
接触电流测试网络 接触电流测试仪 泄漏电流测试仪 漏电流 A.1 ...
电气安规标准中的接触电流和泄漏电流测试,特别是在 IEC 60990、IEC 60601-1、GB 9706.1 等标准中都有详细说明。我们逐个进行专业解释,并结合标准 附录A(A.1) 概述其用途和原理: 🔹 一、术语定义与差异术语中文 ...
分类:    2025-6-13 15:43
这个安规设备医用耐压测试仪里面的泄露电流,是用检测医用漏电流的测试设备吗??? ...
这台设备是 RK2670Y 医用耐压测试仪(Medical Voltage Withstand Test Instrument),主要用于进行耐压(高电压绝缘强度)测试,并带有漏电流检测功能。但它与专门用于医用漏电流测试的设备还是有区别的: ✅ 它检 ...
分类:    2025-6-13 15:32
轨道交通EMC标准对比:GBT 24338.4 与 24338.5 的关键差异
GB/T 24338.4-2009 与 GB/T 24338.5-2009 都是我国轨道交通系统电磁兼容(EMC)标准系列的一部分,它们的区别在于适用对象不同,尽管都参考或等同采用了 IEC 62236 系列国际标准。 下面是它们的核心区别: ✅ 总体对 ...
分类:    2025-6-7 18:31
2Ω/12Ω/42Ω阻抗在雷击测试中的物理意义与标准依据
📘 雷击测试中阻抗选择的技术依据与意义 一、信号源阻抗的物理含义雷击测试中的信号源阻抗并不是测试设备负载的阻抗,而是浪涌发生器内部设置的等效源阻抗,用以模拟实际雷击传导或感应干扰时,电流路径对能量释放的 ...
分类:    2025-6-7 18:00
电场强度衰减得没那么快,而磁场强度衰减得特别快
为什么在近场中:电场强度衰减得 没那么快(~1/𝑟²)而磁场强度衰减得 特别快(~1/𝑟³) 这个现象不是偶然,而是来自麦克斯韦方程组+空间传播特性+源模型(电偶极子/磁偶极子)的物理本质差异。 🧠 核心原理:电场 ...
分类:    2025-6-6 12:34
助听器 input-Referred EMl Noise 测试 According to lEC 60118-13 Ed. 4.0 *inp
样品是MEMS Microphone,终端产品是助听器 ,申请According to lEC 60118-13 Ed. 4.0 *input-Referred EMl Noise 测试 样品:MEMS 麦克风终端产品:助听器依据标准:IEC 60118-13 Ed.4.0关注项目:Input-Referred E ...
分类:    2025-6-6 11:49