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法规业界

Rohde & Schwarz ESR 系列接收机是否有带频谱分析功能？
Rohde Schwarz ESR 系列 EMI Test Receiver（ESR3 / ESR7 / ESR26）是否有带频谱分析功能？ 📌 ESR 的定位本质：一台符合 CISPR 16-1-1 要求的 全兼容 EMI 测试接收机。应用场景：做 EMI 预扫描、合规测量（准峰 ...
分类:    2025-9-2 17:04
HJ/T 10.2-1996辐射环境保护管理导则电磁辐射监测仪器和方法
本导则所称电磁辐射限于非电离辐射 中华人民共和国环境保护行业标准 Guidline on Management of Radioactive Environmental ProtectionElectromagnetic Radiation Monitoring Instuments and Methods 辐射环境保护管 ...
分类:    2025-9-2 16:53
2.4GHz发射50w的功率，我要用多大的衰减器，才能接频谱分析仪 ...
短答：可以，但一定要用“大功率外置衰减/取样”，把 50 W（≈ 47 dBm）降到频谱仪安全输入范围。 先算需要的衰减量50 W → 47 dBm 频谱仪常见指标（以频谱分析仪的说明书为准）不损坏上限：约 +30 dBm（1 W）、且 0 ...
分类:    2025-9-2 16:23
频谱分析仪是否可以看功率，替代功率传感器（功率计）？
1. 频谱分析仪能不能看功率？能。频谱仪本身就是“功率对频率”的显示器，它测量的是某个频点或带宽内的功率。常见的 dBm、dBµV、dBm/Hz 等单位，本质上就是功率。通过设置 RBW（分辨率带宽）、VBW（视频带宽） 和 ...
分类:    2025-9-2 16:02
GB/T 18268.1-2010 & YY 9706.102-2021 差异
1. 标准定位与适用范围对比GB/T 18268.1-2010 是针对测量、控制和实验室用电设备的通用 EMC 要求，等同采纳国际标准 IEC 61326-1:2005，适用于工业、实验室及 IVD（体外诊断）领域的设备。YY 9706.102-2021 为医用电 ...
分类:    2025-8-26 13:37
ESD 静电 ISO 10605:2023
把 DUT 的 GND（或信号地/屏蔽）用线直接接到接地点（GP）那一版更“严格”（严苛），但不一定更“合理”。 是否采用要看具体实际做的测试项目与产品在真实安装中的接地状态。 为什么更严格？把 GND 拉一根线到 GP ...
分类:    2025-8-14 13:14
EN 50121 、 EN 50155 标准介绍
EN 50121 和 EN 50155 是欧洲铁路行业中两个非常关键的电气/电子设备相关标准，主要涉及电磁兼容性（EMC）和环境适应性要求。下面是这两个标准的简要介绍： 一、EN 50121 系列标准 – 铁路应用的电磁兼容性（EMC） ...
分类:    2025-8-7 17:40
电子束图像干扰解析：横纹、斜纹与毛刺的电磁干扰机理与电路对策 ...
✅ 一、干扰现象与底层逻辑框架干扰现象主要表现底层干扰逻辑本质原因分类横向条纹水平方向亮度周期变化、横纹滚动电源干扰、电源波动影响扫描速度低频电源谐波、共模噪声斜向条纹斜纹、交错条纹扫描电路交叉干扰、 ...
分类:    2025-7-7 08:27
电子束控制精度会受到EMC电磁干扰影响吗？
电子束会受到影响，且在高精度电子束控制设备中，这种干扰风险非常关键。 ✅ 1. 电子束控制为何容易受EMC电磁干扰影响？ 原因本质：电子束控制高度依赖电磁场稳定性 电子束的偏转、聚焦、加速，全部依赖于电压、电 ...
分类:    2025-7-4 22:45
电子束偏转器：精准控制电子束扫描的核心原理
一、电子束扫描的基本概念电子束扫描技术广泛应用于扫描电子显微镜（SEM）、电子束光刻（EBL）、电子束诱导电流成像（EBIC）、电子束曝光系统等设备中，其核心任务是控制电子束在样品表面有规律、可控地移动，从而实 ...
分类:    2025-7-4 22:39
EBIC（电子束诱导电流成像）
电子束诱导电流成像（EBIC, Electron Beam Induced Current）是一种结合扫描电子显微镜（SEM）技术的半导体材料与器件电学性能分析方法。其核心原理是利用电子束照射半导体PN结区域，激发电子-空穴对，在内建电场作 ...
分类:    2025-7-4 22:01
电子束光刻（EBL）技术
什么是电子束光刻？ 电子束光刻（e-beam lithography；EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶（抗蚀剂）表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。 电子束光刻系统有着超高 ...
分类:    2025-7-4 21:43
EBL与NBL电子束曝光系统的区别与应用解析
EBL（Electron Beam Lithography，电子束曝光系统）与 NBL（Nano Beam Lithography，纳米束曝光系统）其实都是电子束光刻技术的分支，核心原理相同，但侧重点和应用略有差异。下面是两者的区别： ✅ 1. 名称与侧重项 ...
分类:    2025-7-4 21:32
电子束光刻机与EUV光刻机的核心区别解析
1. 原理不同项目电子束光刻 (EBL)EUV光刻原理利用电子束（加速电子）直接扫描感光材料利用13.5 nm极紫外光进行光刻光源/束源高能电子束极紫外光（波长13.5 nm）成像方式逐点扫描（Serial Writing）光罩投影（Project ...
分类:    2025-7-4 21:28
电子束曝光系统示意图
电子束曝光系统的重要指标 最小束直径：直接影响曝光图形的最小尺寸。可通过调整以下措施获得更小的束斑直径，①设置尽量高的加速电压 ②采用较小尺寸的光阑孔径 ③采用小的工作距离 ④设置小的扫描场 ⑤设置小的曝 ...
分类:    2025-7-4 21:27
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