一、电子束扫描的基本概念 电子束扫描技术广泛应用于扫描电子显微镜(SEM)、电子束光刻(EBL)、电子束诱导电流成像(EBIC)、电子束曝光系统等设备中,其核心任务是控制电子束在样品表面有规律、可控地移动,从而实现成像、加工或检测。 要实现电子束的精准扫描,必须精确控制电子束的运动轨迹。而这项任务,就是由电子束偏转器(Deflection System)来完成的。
二、电子束偏转器的核心原理✅ 1. 物理基础:洛伦兹力作用 电子束实际上是带电电子的高速流动。在电场或磁场中,电子会受到洛伦兹力作用,从而发生轨迹偏转:
✅ 3. 偏转器核心结构
五、电子束偏转器的应用 电子枪 → 加速电极 → 聚焦透镜 → 电子束偏转器(电极/磁线圈) ↓ 聚焦电子束 ↓ 电子束在样品表面移动(受控扫描) 六、实际应用中的偏转控制细节
电子束偏转器是电子束扫描系统中的核心技术,其本质是利用电场或磁场对电子束进行精密控制。通过调节偏转器的电压或电流,即可实现电子束的精确轨迹调制,从而完成各种纳米级成像、加工与检测任务。 ✅ 一句话总结:
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静电偏转的偏转角度与偏转电压成正比,与加速电压成反比,通常仅需几伏至几十伏的偏转电压就可实现微小但精准的电子束扫描。
变量 | 趋势 |
磁场强度 BBB | 磁场越强,偏转越大 |
电流 III | 电流越大,磁场越强,偏转越大 |
加速电压 VaccV_{\text{acc}}Vacc | 加速电压越高,电子速度越快,偏转越小 |
线圈长度 LLL | 磁场作用长度越长,偏转越大 |
飞行距离 DDD | 偏转后传播距离越长,位移越大 |